微电子和半导体行业专用 >> 旋涂薄膜制备
CY-SPC4-SS匀胶机,光刻胶旋涂仪, 10000转/秒程控匀胶
产品介绍 成越CY-SPC4-SS匀胶机采用铝合金框架和304不锈钢腔体结构,体积小巧但性能强劲。仪器最高转速10000rpm,加速度范围100-5000rpm/s,支持5段匀胶曲线存储和程控操作。配备按键+液晶屏人机界面,适用于直径≤4英寸基片的涂覆作业,在光刻胶旋涂、生物培养基制备等领域表现优异。 CY-SPC4-SS匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,304不锈钢腔体,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,最高转速能达到8000转/秒;控制依靠按键和高亮液晶屏,除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能,十分适合实验室选购。 适用范围 CY-SPC4-SS匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域。 技术参数
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