成越 CY-SPC4-SS-JH 净化旋涂仪专为半导体硅片涂覆设计，具有两个独立工位的匀胶台，可单独或同时工作。设备具备高达9999rpm的旋转速度和加热功能，确保胶体涂层的均匀性和工艺控制。采用亚克力腔体，提供了优良的清洁性和透明度，配备液晶屏和手动点胶选项，支持多种匀胶曲线的存储和调整，非常适合集成电路和半导体器件的生产应用。

净化型匀胶机广泛用于半导体硅片的匀胶镀膜等，例如对大型晶圆、芯片、晶片等进行工艺制版时，可用此设备进行各种胶体的表面涂覆或光刻工艺匀胶； 是集成电路及半导体器件生产过程中涂覆匀胶的专用设备 。该设备中涂胶部分含有两个工位的匀胶台，可分别独立工作，也可两台同时工作。

技术参数